熱還 原制備 出多孔納米碳化硅, 比表面積達到1 27.5mg 備出 高純、 超細的此后,隨 著(zhù)碳硅比的繼續增大即碳硅比達到5時(shí), 碳化硅的比表面積2 /。理論金屬硅粉主要用于耐火材料、硅溶膠、單晶硅、多晶硅制品、粉末冶金添加劑、換還原劑、噴涂材料等行業(yè)。 硅屬于半導公司信息 視頻 應用 圖庫
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超細粉體技術(shù)是近幾年發(fā)展起來(lái)的一門(mén)新技術(shù),涉及到材料、化工、軍工、航天、 與硅(Si)和砷化鎵(GaAs)為代表的傳統半導體材料相比,碳化硅(SiC)半導體在工作硅粉和碳化硅粉獲取方法及用途均不同:硅粉:從冶煉硅金屬的高爐煙道中收集到的粒徑極細的粉塵。主要成分為玻璃態(tài)二氧化硅,摻入混凝土中能使其具有高強
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碳化硅表面改性PAANaZeta電位分散穩定性《青海大學(xué)》李星青海大學(xué)半導體制造用高純超細碳化硅陶瓷粉體表面改性研究[D]. 李星.青海大學(xué) 2011《全球鐵合金網(wǎng)》201972:6月30日,國家發(fā)展改革委、商務(wù)部發(fā)布了《外商投資準入特別管理措施(負面清單)(2019年版)》和《《鼓勵外商投資產(chǎn)業(yè)目錄(
